一般涂布工藝模擬分解成兩個(gè)步驟：（1）模頭內(nèi)部流場(chǎng)模擬，采用層流模型，穩(wěn)態(tài)求解（2）模頭與箔材之間的流場(chǎng)，采用層流瞬態(tài)求解器。多相流方法追蹤涂層與空氣的界面。本篇介紹第二個(gè)步驟，這是2016年做的工作。以石墨負(fù)極漿料作為研究對(duì)象，采用流體力學(xué)軟件Fluent對(duì)鋰離子電池漿料涂布的初期流場(chǎng)進(jìn)行有限元模擬，分析漿料從模頭出口流出到涂布穩(wěn)定的過程，研究涂布穩(wěn)定狀態(tài)的影響因素。1 有限元模型通過實(shí)驗(yàn)測(cè)定，石墨負(fù)極漿料的固體物質(zhì)含量為52.0%，漿料密度為(1450±22) kg/m3。圖2(a)為模頭與基材間的流場(chǎng)示意圖，主要參數(shù)包括涂布間隙H、狹縫尺寸w、涂布速度v、上料流量Q、涂布濕厚h以及涂層寬度B。本模擬中：H=0.20mm，w=0.55 mm，L=0.275 mm，B=250 mm，v=0.15 m/s，Q=4.8×10^-4m3/s。采用流體力學(xué)有限元軟件Fluent6.3.26對(duì)擠壓模頭與涂輥之間的外流場(chǎng)進(jìn)行流動(dòng)狀態(tài)模擬，涂布流場(chǎng)如圖2(a)所示。以擠出模頭狹縫內(nèi)部為計(jì)算區(qū)域1，狹縫出口與基材間的外部區(qū)域?yàn)橛?jì)算域2，如圖2(b)所示，采用二維平面模型，計(jì)算域入口設(shè)定為速度入口，出口設(shè)定為壓力出口，壓力值為 Pa，基材設(shè)定為移動(dòng)壁面，移動(dòng)速度即涂布速度v，模頭外壁等其他邊界設(shè)定靜止邊界條件。計(jì)算域網(wǎng)格劃分如圖2(c)所示，網(wǎng)格平均尺寸為0.01mm。涂布流場(chǎng)狀態(tài)是不可壓縮的空氣和漿料兩相非定常流動(dòng)過程，不考慮傳熱過程。采用VOF模型追蹤漿料自由流動(dòng)界面，由于漿料和空氣粘度差異大，選擇CICSAM界面捕捉技術(shù)。假定負(fù)極漿料與基材銅箔的靜態(tài)接觸角為50°，與擠出模頭外壁的接觸角為60°。初始時(shí)刻漿料液體充滿擠出模頭狹縫[圖2(b)中surface1區(qū)]，但沒有溢出狹縫外側(cè)，涂布流場(chǎng)開始計(jì)算后，漿料以穩(wěn)定的速度從狹縫流出。       圖1  有限元幾何模型2 建模過程使用gambit繪制幾何模型并設(shè)定邊界條件，劃分網(wǎng)格，如圖1所示。將幾何模型導(dǎo)入FLUENT求解器，選擇二維隱式瞬態(tài)求解器。選擇VOF模型模擬空氣和漿料兩相流，捕捉兩相界面雷諾數(shù)比較低，選擇層流模型。設(shè)定漿料的密度和粘度。設(shè)定環(huán)境空氣的壓力，密度，并設(shè)定重力加速度。3 結(jié)果與討論3.1 流場(chǎng)初步分析漿料在狹縫外流場(chǎng)流動(dòng)過程中，受到相互影響的作用力，包括由于基材移動(dòng)在流體內(nèi)部產(chǎn)生的粘性力、流體表面力、流體從擠出模頭流出沖擊到移動(dòng)的基材減速過程所形成的慣性力、流體所受到的重力。實(shí)際涂布工藝中，剪切速率γ可由式(1)估算：                式中：v為涂布速度，取值0.15 m/s；H為涂布間距，取值200×10^-6m；則γ=750 s^-1。有限元計(jì)算中假定負(fù)極漿料粘度不變化。文獻(xiàn)報(bào)道，在此剪切速率下，鋰離子負(fù)極漿料粘度μ為1Pa·s。涂布流場(chǎng)中，雷諾數(shù)Re和毛細(xì)管數(shù)Ca可分別由式(2)、式(3)定義：                        式中：雷諾數(shù)Re表示流體慣性力與粘性力之比。本文中，當(dāng)計(jì)算域入口速度v=0.035m/s時(shí)，雷諾數(shù)Re =0.002 4，其值遠(yuǎn)小于1，這表明漿料沖擊基材形成的慣性力作用對(duì)流場(chǎng)擾動(dòng)小，漿料流動(dòng)狀態(tài)為層流過程。毛細(xì)管數(shù)Ca表示流體粘性力與表面力之比，本文中，Ca=3.597，由于鋰離子負(fù)極漿料粘度高，涂布過程中粘性力對(duì)流動(dòng)過程的影響大于流體表面力的影響。3.2 模擬結(jié)果模擬過程中粘度采用層流模型，模擬中假定負(fù)極漿料粘度不變化，所采用的負(fù)極漿料物料參數(shù)、模頭幾何參數(shù)以及工藝參數(shù)見表1，其中漿料入口速度選取0.030、0.035和0.050m/s三個(gè)值，研究工藝參數(shù)對(duì)涂布結(jié)果的影響。涂布工藝都存在一個(gè)工藝窗口：涂布窗口就是可以進(jìn)行穩(wěn)定涂布，得到均勻涂層的工藝操作范圍，其受到三類因素的影響：（1）流體特性，如粘度μ、表面張力σ、密度ρ；（2）擠壓模頭幾何參數(shù)，如涂布間距H，模頭狹縫尺寸w；（3）涂布工藝參數(shù)，如涂布速度v，漿料送料流量Q等。 對(duì)于擠壓式涂布，在固定的涂布速度下，存在送料流量上限和下限，介于上下限之間的范圍即為涂布窗口。涂布窗口上限主要受到涂布液穩(wěn)定性的影響，如當(dāng)流量不足，或者涂布速度太快時(shí)，涂布液珠開始不穩(wěn)定，容易產(chǎn)生空氣滲入、橫向波等缺陷。涂布窗口下限發(fā)生時(shí)，如流量過大或者涂布速度過慢，流體無法及時(shí)被帶走，涂布液珠大量累積，容易形成水窒或者垂流。圖5、圖6、圖7分別為入口速度為0.030、0.035和0.050m/s時(shí)涂布開始至涂布流場(chǎng)穩(wěn)定過程中不同時(shí)刻漿料的流動(dòng)狀態(tài)。流場(chǎng)穩(wěn)定后，出口處漿料沿x軸方向體積分?jǐn)?shù)(VOF)分布如圖8所示，由圖5中可知VOF=1.0和VOF=0.5~0.6時(shí)計(jì)算涂層的厚度，結(jié)果列入表2，同時(shí)不同速度條件下流場(chǎng)雷諾數(shù)Re、流場(chǎng)穩(wěn)定時(shí)間t均列入表2。漿料入口速度由0.035 m/s降低至0.030m/s時(shí)，得到的涂層厚度減小了10×10^-6m，而入口速度增加到0.050 m/s時(shí)，涂層厚度增加了60×10^-6m。當(dāng)入口速度為0.035m/s時(shí)，從計(jì)算開始至流場(chǎng)穩(wěn)定的時(shí)間最小，為37.54 ms。無論入口速度增加還是降低，涂布流場(chǎng)穩(wěn)定時(shí)間都有所增加，當(dāng)入口速度為0.030m/s時(shí)，流場(chǎng)穩(wěn)定時(shí)間為48.75 ms，當(dāng)入口速度為0.050 m/s時(shí)，流場(chǎng)穩(wěn)定時(shí)間為63.46ms。入口速度為0.030m/s時(shí)，涂布開始后10 ms時(shí)刻，狹縫流出的漿料填充在模頭與基材之間[圖5(a)]，同時(shí)基材沿y軸正向移動(dòng)，所產(chǎn)生的粘性力使?jié){料跟隨基材移動(dòng)，由于基材移動(dòng)帶走的漿料無法及時(shí)得到補(bǔ)充，大量空氣卷入涂層[圖5(b)]，卷入空氣的漿料最后在基材上形成圖5(c)所示涂層。隨著漿料的不斷供應(yīng)，流場(chǎng)上流道區(qū)域(y>0)基本穩(wěn)定，流場(chǎng)下流道區(qū)域(y <0)也由復(fù)雜狀態(tài)逐步趨于穩(wěn)定，如圖5(d)所示，最后形成比較穩(wěn)定的涂布流場(chǎng)[圖5(e)]。入口速度為0.035m/s時(shí)，漿料填充模頭與基材之間區(qū)域后[圖6(a)]，基材所帶走的漿料能夠及時(shí)充足補(bǔ)充，涂層中不會(huì)卷入大量的空氣，下流道流場(chǎng)很快達(dá)到了穩(wěn)定狀態(tài)[圖6(b)]，上流道流場(chǎng)在重力干擾下會(huì)產(chǎn)生不穩(wěn)定狀態(tài)[圖6(b)和(c)]，但是隨著涂布不斷進(jìn)行，上流道也很快達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)[圖6(d)和(e)]。因此這種條件下，涂布流場(chǎng)穩(wěn)定時(shí)間短，這是最佳的涂布工藝操作范圍。入口速度為0.050m/s時(shí)，漿料供應(yīng)充足，不會(huì)從下流道流場(chǎng)卷入大量空氣[圖7(a)和(b)]，下流道流場(chǎng)能較快達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)[圖7(b)]。但是由于入口速度較大，形成比較厚的涂層(表2)，上流道流場(chǎng)容易受到重力影響，需要較長(zhǎng)時(shí)間達(dá)到穩(wěn)定[圖7(c)]，厚涂層形成缺口導(dǎo)致上流道流場(chǎng)很快崩塌[圖7(d)]，經(jīng)歷較長(zhǎng)時(shí)間，約63.46ms，涂布流場(chǎng)達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)[圖7(e)]。流動(dòng)過程動(dòng)畫如下：

漿料速度0.030m/s

漿料速度0.035m/s

漿料速度0.050m/s